Document

Morphology and electronic effect of Ar+Ion irradiation on Si(111) 7×7 surfas

Publisher
Sultan Qaboos University
Gregorian
2015
Language
English
Subject
English abstract
Surface and subsurface induced morphology and electronic structure of clean reconstructed Si(111) 7x7 after low energy argon ion irradiation is investigated. We observed electron emission enhancement in the three surface and Si Sp3 hybridisation bulk states in the un-irradiated sample as a function of ultra-violet photoemission spectroscopy tilt angle, contrary to that of the intermediate and secondary electron cut off bulk states. Upon ion irradiation at different geometries of the reconstructed surfaces, band states attenuation and features such as ripples and nanoparticles are developed. The density of Si vacancy defects was found to be sample irradiation tilt angle dependent with average g factor value of 2.006. It is demonstrated that ripples and nanoparticles can be qualitatively correlated to the curvature and the energy shift of the intermediate electronic bulk band in the ultra-low energy argon ion irradiation regime.
Arabic abstract
في هذا البحث تمت دراسة وتحليل الخصائص الالكترونية وتغيرات السطح المتكونة على سطح السيليكون بعد اشعاعها بأيونات الأرغون ذات الطاقة المنخفضة .
لقد لاحظنا أنه عند استخدام تقنية UPS بزوايا مختلفة على سطح السيليكون غير المعرض للاشعاع ان هناك ازدياد في مستويات كمية الالكترونات التي تم رصدها عند السطح وعند المستوى الهجين ;sp بخلاف تلك التي تم رصدها عند المستويات المتوسطة والثانوية للالكترونات. لقد تم ملاحظة العديد من التغيرات على الخصائص التركيبية على سطح بعد اشعاعها بأيونات الأرغون مثل تموجات السطح و تكون جزيئات النانو، بالاضافة الى التغير في شواغر الروابط لدى جزيئات النانو التي لوحظ بأنها تتأثر زاوية الاشعاع بمعامل متوسط يبلغ .2.006
كما تم ايضا في هذا البحث تحليل الارتباط النوعي للخصائص الالكترونية عند المستويات المتوسطة بتكون تموجات السطح وتكون الجزيئات النانوية.
Category
Theses and Dissertations